金融界 2025 年 4 月 24 日音讯，国家知识产权局信息数据显现，ASML 荷兰有限公司请求一项名为“延伸 EUV 光刻体系中的光学元件的惯例运用的寿数”的专利，公开号 CN119805878A，请求日期为 2019 年 2 月。
专利摘要显现，经过气体到包括光学元件的线)中的受控引进，削减用于生成 EUV 辐射的体系(SO)中的一个或多个反射光学元件的反射率的劣化。该气体能够被添加到比如氢气的另一气体流中，或许与氢自由基的引进替换。
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